虽然罗杰斯没有发布正式指令，法治但她表明，或许会答应马斯克就其部分指控将OpenAI告上法庭，并要求他出庭作证。

该技能的中心流程包含薄膜堆积、护航沟槽的光刻与蚀刻、通孔的光刻与蚀刻、阻挠层的堆积、种子层的铺设、铜的电镀以及化学机械抛光等要害环节。运用特定添加剂杂质可阻挠微缺点搬迁，立异进步铜线的应力搬迁功能，但杂质增多会下降铜线的电子搬迁功能。

图8：民企刻蚀通孔(4)在填充BARC后，咱们堆积了低温氧化硅（LTO）层，该层作为后续蚀刻的硬掩模，如图9所示。ALD以其杰出的保形性和填洞才能著称，破浪可以完结侧壁的完美掩盖，破浪并能构成极薄（约10Å）且接连性好的薄膜，有助于增大铜线的有用截面积并下降电阻。可是，前行在通孔光刻进程中，PR会填充到沟槽中，导致PR层变厚，然后添加了曝光与显影的难度。

此刻，法治沟通偏压被用来驱动Ar离子对晶圆上已堆积的Ta进行刻蚀/溅射，而直流线圈则持续供给Ta源，以避免通孔和沟道的边角被过度刻蚀。鉴于铜的高度活性及其易于在介电资猜中分散的特性，护航特别是在选用低介电常数或超低介电常数资料时，护航铜分散问题尤为严峻，传统的阻挠资料（比如Ti、TiN）已难以担任。

但跟着技能迭代，立异晶体管尺度持续减缩，电阻电容（RC）推迟已成为约束集成电路功能的要害因素。

留意作为金属阻挠层，民企其通孔电阻亦需考量，但阻挠层资料往往具有较高的电阻率，对通孔电阻有明显影响。二是沟槽尺度存在扩张现象（见图14），破浪或许引发互连线间的桥接短路危险，然后无法满意更先进工艺节点的要求。

可是，前行因为BARC的填充，后续沟槽蚀刻进程中通孔内或许残留BARC，这是先通孔技能的一个固有缺点。电镀铜工艺与低k介质具有杰出的工艺兼容性，法治一般构成(111)方向的织构，有利于进步电导率。

图18：护航通孔光刻(5)经过通孔刻蚀并去除PR和BARC，得到包含沟槽与通孔的结构，如图19所示。钉（Ru）因其对铜具有更优异的黏附性，立异被视为完结直接电镀的潜在候选资料。